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내년 말 가동 목표

중국에 낸드플래시 생산 라인 건설을 추진중인 삼성전자가 산시성(陝西省) 시안시(西安市)와 우선 협상하기로 결정했다.삼성전자는 21일 중국 내 낸드 플래시 반도체 생산라인 건설을 위해 샨시성 시안시와 양해각서(MOU) 체결을 위한 실무 협상을 시작한다고 21일 발표했다.

양측은 이번 달부터 본격적인 실무 협의에 돌입한다. 우선협상을 시작하는 시안시는 반도체 라인 운영에 필요한 산업 용수와 전기 등 산업 인프라가 잘 갖춰져 있으며 다양한 IT기업들의 연구 거점과 유수 대학들이 있어 우수한 인재를 확보할 수 있는 곳으로 평가받는다.

특히 시안시를 포함한 중국 서부 지역은 현재 글로벌 IT기업들이 생산거점으로 진출하고 있고 중국 고객들이 지속적으로 확대되는 신성장 지역으로 꼽힌다. 삼성전자가 시안시를 우선협상도시로 선정한 것도 이 곳을 신속한 시장 트렌드 반영과 고객 대응이 가능한 전략 거점으로 생각했기 때문으로 보인다.

삼성전자는 지난해 12월 중국 반도체 생산라인 건설을 지식경제부에 신청해 올해 1월 승인을 받았다. 삼성전자가 해외에 반도체 라인을 만들기는 1996년 미국 오스틴 지역 진출에 이어 이번이 두번째다. 삼성전자는 시안시와의 실무 협상을 원만하게 마무리하는 대로 중국 정부의 승인 절차를 완료해 연내 생산라인 건설에 착수하고 내년 말부터 가동에 들어갈 수 있도록 할 계획이다.

삼성전자는 "스마트폰, 태블릿에 이어 초경량 슬림 노트북 시장에서 수요가 대폭 확대됨에 따라 올해 고성능 대용량 10나노급 낸드플래시를 양산해 프리미엄 메모리 시장을 주도하고 내년부터는 중국에서도 10나노급 낸드 플래시 양산을 개시, 중국 시장을 선점해 나갈 예정"이라고 말했다.

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